반도체 입문

FAB (Fabrication Facility)FAB은 반도체 장비가 설치되어 양산이 이루어지는 공간을 말한다. wafer가 이동하며 실제 공정이 이루어지는 Clean Fab은 제품의 오염을 줄이기 위해 마이크로 단위의 파티클 오염을 관리하는 Clean Room으로 구

통상적으로 반도체는 system 반도체와 memory 반도체로 양분된다. 이들은 각각 반도체 시장에서 약 70%, 30% 정도의 규모를 지닌다. 국내에 있는 삼성전자, SK 하이닉스는 memory 반도체를 주력으로 다루는 기업이다. 먼저 System 반도체는 연산작업을

진공의 역할과 반도체 공정에서의 사용반도체 공정에서 진공은 대기압보다 낮은 압력 상태를 의미하고 불순물을 제거하고 공정의 정확도를 높이는 데 중요한 역할을 한다. 진공의 유지는 세 가지 이유로 인해 진행된다. 먼저 불필요한 이물질이 공정 중에 칩에 침투하는 것을 방지하

진공/플라즈마 장비의 중요성진공과 플라즈마는 반도체 공정에서 필수적이다. 첫째로 내부에 존재하는 기체가 적기도 하지만 오염도가 낮아 불량율을 낮추는데 이점이 있다. 둘째로 공정 시간을 단축시키고 제어가 용이한 플라즈마 형성이 가능하다는 장점이 있다.각 플라즈마 장비에서

Vaporizer Vaporizer는 반도체 증착 공정에서 액상의 Precursor를 Vapor로 전환하는 부품이다. 최근 반도체 기술이 발전함에 따라 gas 대신 액상 Precursor를 이용한 공정이 증가하였으며 이때 액상을 기화시켜 사용해야 한다. Vaporiz