지난 포스트에 이어, NAND와 NOR 형제의 3, 4번째 시리즈를 제작한다. 이전 1번, 2번 포스트에서 진행한 과정과 동일하게 검증을 거쳤다.
이러한 복잡한 과정을 대부분 1시간 안에 끝내야 한다. 툴을 배우면서 게이트를 완성하는 것은 재밌지만, 생각보다 고된 일이었다. 다음은 완성한 게이트들의 목록이다.
3NAND schematic
3NAND symbol
3NAND layout
3NOR schematic
3NOR symbol
3NOR layout
4NAND schematic
4NAND symbol
4NAND layout
4NOR schematic
4NOR symbol
4NOR layout
게이트의 종류 | WIDTH(beta) | gate's height | pMOSFET개수 |
---|---|---|---|
2NAND | 2.53µm | 5.60µm | 2 |
3NAND | 2.31µm | 5.92µm | 3 |
4NAND | 2.14µm | 5.69µm | 4 |
2NOR | 3.97µm | 7.06µm | 2 |
3NOR | 5.00µm | 8.31µm | 3 |
4NOR | 5.96µm | 9.51µm | 4 |
표를 보면, 어떤 사실을 발견할 수 있지 않은가? pMOS의 숫자가 증가할수록, WIDTH가 증가하는 경향을 보이며, (높이)(MOSFET개수 -1) = TOTAL WIDTH이다. TW과 W(beta)의 차이점은 pMOSFET의 개수만큼 W(beta)를 곱하면 pMOS의 총 높이 TW이 되며, (nMOSFET의 개수)(1)이 nMOS의 TW가 된다.
또한 NAND는 입력 FET이 증가할수록 점점 beta값이 낮아지고, NOR은 점점 증가하는 것을 알 수 있다. 왜냐하면, nMOS와 pMOS는 각각 전달자가 electron과 hole인데, 이때 전압을 주면 pMOS의 상태와 nMOS의 상태는 반대를 이루게 된다.
4NAND와 4NOR의 예를 들어보면 4NAND는 pMOS가 병렬로 연결된 것을 알 수 있다. 이 경우, pMOS 중 하나라도 ON 된다면 4NAND는 output이 1이기 때문에, 전체 저항은 pMOS 하나의 저항과 같다. 이 수치를 R이라고 하자. 반대로, 4NOR은 직렬로 pMOS가 연결되어 있다. 이 경우, pMOS가 모조리 ON 되어야 output이 1을 출력한다. 따라서 전체저항 R은 부분저항 R/4로 나뉘게 된다. 다음의 아주 간략화된 공식을 참고해보자.
W/L = I = V/R
즉, 저항은 WiDTH에 반비례하므로 저항이 줄어들면 줄수록 WIDTH값이 표와 같이 늘어남을 알 수 있다.