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웨이퍼(Wafer)
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2021년 5월 21일
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8대공정
반도체
삼성반도체이야기
웨이퍼
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반도체
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👩🔧 반도체 8대 공정
반도체가 완성되기까지 거치는 수백 번의 과정을 크게 8개의 공정으로 구분한 것
👩🔧 웨이퍼(Wafer)
반도체 집적회로의 핵심 재료
웨이퍼 제조에 필요한 재료
반도체 집적회로와 웨이퍼의 관계
반도체 집적회로
다양한 기능을 처리하고 저장하기 위해 많은 소자를 하나의 칩 안에 집적한 전자부품
얇은 기판(웨이퍼) 위에 다수의 동일 회로를 만들어 탄생
웨이퍼 = 반도체의 기반(피자의 도우)
웨이퍼
실리콘(Si), 갈륨 아세나이드(GaAs) 등을 성장시켜 만든 단결정 기둥을 적당한 두께로 얇게 썬 원판
모래에서 추출한 규소 즉, 실리콘으로 제작
지구상에 풍부하게 존재 >> 안정적인 재료 수급 가능
독성X >> 환경적으로 우수
반도체 웨이퍼 제조 공정
❗ 1단계. 잉곳(Ingot) 만들기
실리콘을 반도체 재료로 사용하기 위해서는 순도를 높이는 정제 과정 필요
실리콘 원료를 뜨거운 열로 녹여 고순도의 실리콘 용액 만듦
결정을 성장 시켜 굳힘
잉곳: 실리콘 기둥
수 나노미터(nm)의 미세한 공정을 다루는 반도체용 잉곳 >> 실리콘 중에서 초고순도의 잉곳 사용
❗ 2단계. 잉곳 절단하기(Wafer Slicing)
둥근 팽이 모양의 잉곳을 원판형의 웨이퍼로 만들기 위해 다이아몬드 톱을 이용해 균일한 두께로 얇게 써는 작업 필요
잉곳의 지름이 웨이퍼의 크기를 결정
150mm(6인치), 200mm(8인치). 300m(12인치)
웨이퍼 두께 얇을수록 제조 원가 줄어듬
지름이 클수록 한번에 생산할 수 있는 반도체 칩 수 증가
따라서, 웨이퍼의 두께와 크기는 점차 얇아지고 커지는 추세
❗ 3단계. 웨이퍼 표면 연마(Lapping&Polishing)하기
절단된 웨이퍼는 가공을 거쳐 거울처럼 매끄럽게 만듦
표면에 흠결이 있고 거친 절단 직후의 웨이퍼 >> 회로의 정밀도에 영향
연마액과 연마 장비(Polishing Machine)를 통해 웨이퍼 표면을 매끄럽게 갈아냄
Bare Wafer
가공 전의 웨이퍼
아직 옷을 입지 않은 상태
Bare Wafer에 여러 단계의 물리적, 화학적 가공을 거쳐 표면에 IC를 형성시키고 가공 단계를 거치면 아래와 같은 모습이 됨
❗ 반도체 웨이퍼 명칭
웨이퍼(Wafer)
반도체의 집적회로의 핵심 재료인 원형의 판
다이(Die)
둥근 웨이퍼 위에 작은 사각형 밀집
사각형 하나하나에 전자 회로가 집적되어 있는 IC칩
스크라이브 라인(Scribe Line)
맨 눈으로는 다이들이 서로 붙어있는 듯 보이지만, 일정한 간격을 두고 있는데 그 간격을 말함
스크라이브 라인을 두는 이유는 웨이퍼 가공이 끝난 뒤, 다이들을 한 개씩 자르고 조립해 칩으로 만들기 위해서이다
다이아몬드 톱으로 잘라낼 수 있는 폭을 두는 것
플랫존(Flat Zone)
웨이퍼의 구조를 구별하기 위해 만든 영역
웨이퍼 가공 시 기준선이 됨
웨이퍼의 결정구조는 매우 미세함 >> 눈으로 판단할 수 없음 >> 플랫존을 기준으로 웨이퍼의 수직, 수평을 판단
노치(Notch)
최근에는 플랫존 대신에 노치가 있는 웨이퍼
노치 웨이퍼가 플랫존 웨이퍼보다 더 많은 다이를 만들 수 있어 효율이 높다
❗ 웨이퍼 관련 사업
웨이퍼 산업
웨이퍼를 생산
팹(FAB, Fabrication) 산업
웨이퍼를 자재로 해 회로를 설계하고 제조하는 웨이퍼 가공 산업
어셈블리(Assembly) 산업
가공된 웨이퍼로 다이를 잘라서 습기나 압력에 보호받게 포장(package)하는 산업
출처: 삼성 반도체 이야기
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